STS Multiplex ICP 离子刻蚀机
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STS Multiplex ICP 离子刻蚀机

商家设备
报价:会员登陆可见(不含增值税)

Etch

类型

2002年

年份

6

晶片尺寸

上海

所在地

基本信息

  • 所在地:上海
  • 交货地:上海
  • 类型:Etch
  • 年份:2002年
  • 设备状况:翻新
  • 晶片尺寸:6
  • 设备数量:2
  • 销售状态:急售
  • 库存状态:国内仓库

设备描述

感应耦合等离子刻蚀机 STS Multiplex ICP
设备品牌: Surface Technology Systems 设备型号: Multiplex ICP
设备序列号:36043
软件版本: Standard
制造商: Surface Technology Systems Ltd .产地:英国
生产日期:2002年

设备信息 MACHINE INFORMATION
1、产品信息 Product Information :6英寸硅片( MEMS Process )
2、设备重量 Unit Weight :1200Kg
3、运行数量 Run Number : Single wafer
4、腔体配置 Chamber Configuraton :1X Chamber
5、设备尺寸 Machine Size :详见附件《设备机械图纸》 See Attachment
二、硬件配置 HARDWARE CONFIGURATION
1.MAIN body
lea
2, Load lock
lea
3, Turbo Pump
lea
4, Controller BOX
lea
5. RF Generater
2ea
6. Vaccum Pump
2ea
7, Chilller
2ea
8, Gas box
1ea
三、设备方面 EQUIPMENT
1.机台正常起辉
2.背 He 流量不大于40SCCM
3.背 He 漏率不大于30mtor/ min
4.腔体背底压力不大于9* e -5 Tor
5.刻蚀速度大于5um/ min
6.刻蚀片内均一性小于+/-5%
7.选择比 si : PR 大于100:1; si :siO2大于150:1
8.侧壁角度:91-95°

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上架时间:2024-06-12

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